基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量，壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí)，沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子，因而形成的膜層結構疏松，顆粒粗大，缺陷多;反之，膜層結構均勻致密，機械強度高，膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下，基片溫度高時(shí)，真空鍍鈦價(jià)格，吸附原子的動(dòng)能隨之增大，形成的薄膜容易結晶化，并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí)，則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子，因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.

鍍鈦處理工藝是使用多種材料的涂層技術(shù)，其加工溫度需保持在150攝氏度以上，但不能超過(guò)500攝氏度。鍍鈦不僅能使工具豐富多彩，也是工具達到一定硬度的效果，采用PVD技術(shù)，使工具具有優(yōu)異的性能。

　　鍍鈦是一種通用涂層加工工藝，很多人對于鍍鈦的主要特點(diǎn)不是很了解，那么，鍍鈦的主要特點(diǎn)是什么呢

　　1、鍍鈦指的是在溫度較高的鈦金爐內，將鈦、鋯等金屬除去空氣，同時(shí)憑借惰性氣體的輝光放電

可見(jiàn)，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能 地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現互補，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法增厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。

大約在八十年代中后期，出現了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機，應用效果很好，使TiN 涂層刀具很快得到普及性應用。