離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，處理不銹鋼鍍鈦電話(huà)，克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著(zhù)力和質(zhì)量，是一種結合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。

根據離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。

　鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝，單縣處理不銹鋼鍍鈦，現在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。

　　在二十世紀七十年代末，人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù)，即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應用在硬質(zhì)膜的制造上，它能夠提高產(chǎn)品的機械化學(xué)性能，使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí)，就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響，處理不銹鋼鍍鈦哪家好，受到了高度重視。同時(shí)，這種技術(shù)工藝符合現代人們對環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求，是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。

鍍層附著(zhù)性能好

普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，處理不銹鋼鍍鈦哪里有，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現象發(fā)生，可見(jiàn)附著(zhù)多么牢固，膜層均勻，致密。