磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，金屬表面鍍鈦加工哪里有，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，

PVD加工特點(diǎn)

1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，金屬表面鍍鈦加工服務(wù)，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；

3).涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí)；

4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

鍍鈦板種類(lèi)多，有鍍鈦毛絲面板、鍍鈦鏡面板及鍍鈦亂紋板和鍍鈦霧珠板等，在經(jīng)過(guò)設計師的巧思之下，漯河金屬表面鍍鈦加工，不同面材可以呈現出不同的空間表現，在使用上，也可以帶出線(xiàn)條的俐落、幾何的造型等趣味感。目前，鍍鈦材質(zhì)常被運用在室內公共空間，如餐廳、客廳或玄關(guān)。但如果預算上許可，大也可以用在更衣間或臥房，或設計于桌面。使用鍍鈦鏡面板，其反光效果好，可以讓視覺(jué)空間變得前衛。