鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能，高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，真空不銹鋼鍍鈦電話(huà)，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

PVD技術(shù)的應用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，真空不銹鋼鍍鈦價(jià)格，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀(guān)效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。

電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，真空不銹鋼鍍鈦哪家好，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等

缺點(diǎn)

    會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量

利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。