在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命。

PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，商丘專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦服務(wù)，使鍍料蒸發(fā)氣化。

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦價(jià)格，壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí)，沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子，因而形成的膜層結構疏松，顆粒粗大，缺陷多;反之，膜層結構均勻致密，機械強度高，膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下，基片溫度高時(shí)，吸附原子的動(dòng)能隨之增大，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦公司，形成的薄膜容易結晶化，并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí)，則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子，因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.