首先，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，兩極間的氣體會(huì )被擊穿，界首不銹鋼鍍鈦電話(huà)，形成弧電流，這與電焊的引弧相類(lèi)似。首先，金屬不銹鋼鍍鈦電話(huà)，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，金屬表面不銹鋼鍍鈦電話(huà)，兩極間的氣體會(huì )被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類(lèi)似。此時(shí)，部分N2發(fā)生離化，形成氮的陽(yáng)離子以及電子。


直流二級離子鍍，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦電話(huà)，是穩定的輝光放電；空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍，是熱弧光放電，產(chǎn)生電子的原因均可簡(jiǎn)單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度，導致核外電子的熱發(fā)射；陰極電弧離子鍍的放電類(lèi)型與前面幾種離子鍍的放電類(lèi)型均不相同，它采用的是冷弧光放電。在眾多離子鍍膜技術(shù)中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者，其目前已經(jīng)逐步發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域的主力。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，

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