離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實(shí)踐的。其原理是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)，把蒸發(fā)物或其他反應物鍍在基片上的工藝。

根據膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，鹿邑不銹鋼鍍鈦選哪家，其中蒸發(fā)型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。

工具鍍的目的：主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，處理不銹鋼鍍鈦選哪家，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命；這方面主要應用在各種刀剪、車(chē)削刀具（如車(chē)刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等）等產(chǎn)品中。

雖然使用PVD鍍膜技術(shù)能夠鍍出高品質(zhì)的膜層，表面不銹鋼鍍鈦選哪家，但是PVD鍍膜過(guò)程的成本其實(shí)并不高，它是一種性?xún)r(jià)比非常高的表面處理方式，所以近年來(lái)PVD鍍膜技術(shù)發(fā)展得非?？?。PVD鍍膜已經(jīng)成為五金行業(yè)表面處理的發(fā)展方向。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，