離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實(shí)踐的。其原理是在真空條件下，金屬表面鍍鈦廠(chǎng)家服務(wù)電話(huà)，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)，把蒸發(fā)物或其他反應物鍍在基片上的工藝。

根據膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。

在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命。

可見(jiàn)，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，夏邑金屬表面鍍鈦廠(chǎng)家，為了盡可能 地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現互補，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法增厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。

大約在八十年代中后期，金屬表面鍍鈦廠(chǎng)家公司，出現了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機，應用效果很好，使TiN 涂層刀具很快得到普及性應用。