PVD加工特點(diǎn)

1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；

3).涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，表面鍍鈦廠(chǎng)家哪里有，一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí)；

4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，專(zhuān)業(yè)鍍鈦廠(chǎng)家哪里有，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

　鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝，現在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。

　　在二十世紀七十年代末，人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù)，即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應用在硬質(zhì)膜的制造上，它能夠提高產(chǎn)品的機械化學(xué)性能，使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí)，就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響，商丘鍍鈦廠(chǎng)家哪里有，受到了高度重視。同時(shí)，這種技術(shù)工藝符合現代人們對環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求，是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，裝飾鍍鈦廠(chǎng)家哪里有，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，