用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，開(kāi)封表面不銹鋼鍍鈦，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過(guò)程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，表面不銹鋼鍍鈦公司，并產(chǎn)生持續的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來(lái)形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結合力。

此外，采用溶劑熱鍍鋅時(shí)，zui常用的ZnCl2與NH4Cl混合水溶液的配比不正確時(shí)，沒(méi)有形成共晶點(diǎn)，表面不銹鋼鍍鈦電話(huà)，特別是在濃度過(guò)高的情況下，在支撐板焊接角縫圓形孔內極易出現夾灰性漏鍍。造成鋅層脫落的主要原因有：表面氧化、有硅化合物、冷扎乳化液太臟、NOF段氧化氣氛及保護氣體lou點(diǎn)太高、空燃比不合理、氫氣流量偏低、爐子有氧滲入，表面不銹鋼鍍鈦哪里有，帶鋼入鍋溫度偏低，RWP段爐壓偏低及爐門(mén)吸風(fēng)、NOF段爐溫偏低，油脂蒸發(fā)不盡、鋅鍋鋁含量偏低、機組速度太快、還原不充分、鋅液中停留時(shí)間太短、鍍層偏厚。