采用PVD涂鍍技術(shù)可以生產(chǎn)極薄的涂層且可以擴張到其他合金體系，因此具有更廣闊的應用價(jià)值。涂層厚度減半甚至到原來(lái)的1/3，對涂鍍板的焊接性能和成型性能會(huì )有很大的提高。更為重要的是，與傳統技術(shù)相比，PVD涂鍍技術(shù)不需要進(jìn)行yan塵和排放物的控制，因此，具有環(huán)保優(yōu)勢。采用新的PVD涂鍍技術(shù)，首先必須解決的問(wèn)題是，實(shí)現涂鍍工程的工業(yè)化規模生產(chǎn)，達到連續化和高速化涂鍍的要求。PVD（PhysicalVaporDepsition）鍍膜，是指利用物理手段實(shí)現物質(zhì)轉移，將原子或分子級新材料轉移到基材表面的過(guò)程。

電鍍除油劑應用的價(jià)值體現：電鍍除油劑契合電鍍工藝生產(chǎn)工藝的需求，適合電鍍線(xiàn)體，阜陽(yáng)真空鍍鈦，操作方式簡(jiǎn)單，通過(guò)底涂的方法，噴涂于底材上，當然較嚴重的油污還是需要經(jīng)過(guò)對油污表面進(jìn)行擦拭，更好的分散油污，真空鍍鈦電話(huà)，再?lài)娡侩婂兂蛣┖?，能夠獲得有效的覆蓋和流平效果，真空鍍鈦價(jià)格，同時(shí)其具有能提升鍍層與底漆之間的附著(zhù)力。針對常規電鍍除油工藝的不足與缺陷，經(jīng)過(guò)實(shí)踐應用之后的電鍍除油劑在工藝上簡(jiǎn)化并適合真空鍍膜線(xiàn)體，同時(shí)除油gao效，不存在安全問(wèn)題，在排污方面屬于底涂型，不會(huì )形成污水，在提升電鍍良率方面有著(zhù)重要的意義。

用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。