PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來(lái)加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場(chǎng)控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等

在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴散速度，因而可以控制浸鍍層厚度的增長(cháng)，當鋅液中Ni含量為0.06%時(shí)，Ni含量可達0.8%，加入Ni后厚度增長(cháng)明顯得到控制，因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長(cháng)，并能改善鋅液的流動(dòng)性能。因此，使用鋅鎳合金進(jìn)行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻，表面更光亮，鋅花少。

總之，熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復雜，產(chǎn)生的原因也較多，真空鍍鈦廠(chǎng)家公司，解決辦法是多方面的，需要做大量艱若細致的工作，使熱鍍技木提高一步。

PVD鍍膜與傳統化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜不會(huì )產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜技術(shù)目前主要應用的行業(yè)：PVD鍍膜技術(shù)的應用主要分為兩大類(lèi)：裝飾鍍膜和工具鍍膜。