PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，處理鍍鈦廠(chǎng)家選哪家，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結構、耐化學(xué)和耐溫性、結合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應性氣體（例如氮氣或含碳氣體）；之后形成含金屬蒸氣的復合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類(lèi)廣泛5．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

1.鍍鋅特點(diǎn)：鋅的優(yōu)點(diǎn)是在干燥的空氣中相對穩定，不變色，在水或潮濕的環(huán)境中會(huì )與氧氣或二氧化碳反應形成保護膜。此外，鍍鋅不僅成本低，而且易于加工，其標準電位相對較負。因此，鋅的促成對不銹鋼甚至許多金屬均為陽(yáng)極性鍍層。用途：一般用于大氣或其他相對較好的環(huán)境中，注意不要用作摩擦部件。鍍鎘特點(diǎn)：與海洋性強的大氣和70攝氏度以上的熱水環(huán)境相比，鎘涂層穩定、耐腐蝕，具有良好的潤滑性能。然而，應該注意的是，當鎘熔化時(shí)，有毒氣體會(huì )產(chǎn)生，而且鎘鹽也是有毒的。