而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍源上，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線(xiàn)準分子雷射。紫外線(xiàn)的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠比紅外線(xiàn)高，因此準分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類(lèi)似。常被用來(lái)披覆成份復雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或濺射的過(guò)程有基本上的差異，準分子雷射脫離的是微細的顆粒，家具鍍鈦加工哪家好，后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：①蒸鍍速率快，可達每秒1.0微米；②基板不須加熱；③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物；④鍍膜密高且附著(zhù)力佳。

PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。真空蒸鍍在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱(chēng)膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物蒸鍍在工件上。

1.鍍鋅特點(diǎn)：鋅的優(yōu)點(diǎn)是在干燥的空氣中相對穩定，不變色，在水或潮濕的環(huán)境中會(huì )與氧氣或二氧化碳反應形成保護膜。此外，鍍鋅不僅成本低，而且易于加工，其標準電位相對較負。因此，鋅的促成對不銹鋼甚至許多金屬均為陽(yáng)極性鍍層。用途：一般用于大氣或其他相對較好的環(huán)境中，注意不要用作摩擦部件。鍍鎘特點(diǎn)：與海洋性強的大氣和70攝氏度以上的熱水環(huán)境相比，鎘涂層穩定、耐腐蝕，具有良好的潤滑性能。然而，應該注意的是，當鎘熔化時(shí)，有毒氣體會(huì )產(chǎn)生，而且鎘鹽也是有毒的。