PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，真空不銹鋼鍍鈦報價(jià)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長(cháng)法，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，真空不銹鋼鍍鈦哪家好，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

PVD涂層是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法。該涂層不僅增加了工件的表面硬度、增加耐磨性、增加耐腐性、增加抗粘性、減少摩擦、延長(cháng)產(chǎn)品的工作時(shí)間或使用壽命，而且提高了企業(yè)生產(chǎn)率、降低生產(chǎn)成本、提高加工可靠性、提高質(zhì)量、縮短交貨時(shí)間、減少對環(huán)境的影響并節約資源以及企業(yè)的競爭力。（2）涂層厚度：PVD涂層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1-5um，其中裝飾裝飾性涂層膜厚度一般為0.1-1um，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸的基本不變，鍍后不需再加工。

熱鍍基板可以是熱軋也可以是冷軋基板，一些外貿詢(xún)單中會(huì )用HX或HC這種簡(jiǎn)稱(chēng)來(lái)代指熱軋基板或是冷軋基板。這是源自歐標牌號的命名規則，商丘真空不銹鋼鍍鈦，當然是不太規范的。

此外，在某些行業(yè)中，GI常被用來(lái)代指熱鍍純鋅鍍層、GA代指熱鍍鋅鐵鍍層、ZAM代指鋅鎂鍍層。

主流的熱鍍鍍層分為六大類(lèi)，分別是：

1、熱鍍純鋅（Z）

2、熱鍍鋅鐵合金（ZF）

3、熱鍍鋅鋁（ZA）

4、熱鍍鋁鋅（AZ）

5、熱鍍鋁硅（AS）

6、熱鍍鋅鎂（ZM）