PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的具體原理是在真空條件下使用低壓，大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使目標材料蒸發(fā)并使氣化的物質(zhì)和氣體電離，并利用電場(chǎng)加速功能，將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD涂膜層的特性，采用PVD涂膜技術(shù)鍍膜的膜層具有高硬度，金屬表面不銹鋼鍍鈦服務(wù)，高耐磨性（摩擦因數），真空不銹鋼鍍鈦服務(wù)，良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性的特點(diǎn)，并且該膜具有更長(cháng)的壽命。同時(shí)，薄膜可以大大改善工件的外觀(guān)和裝飾性能?？赏ㄟ^(guò)PVD涂層電鍍的薄膜類(lèi)型，PVD涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級涂層而無(wú)污染。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中，從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線(xiàn)運動(dòng)，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內，當氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時(shí)，這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線(xiàn)飛行，否則，處理不銹鋼鍍鈦服務(wù)，就會(huì )產(chǎn)生碰撞而改變運動(dòng)方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要的。當真空容器內蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱(chēng)蒸距)時(shí)，就會(huì )獲得充分的真空條件。設蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L(cháng)，并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實(shí)際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子數為N0，在相距為L(cháng)的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數為N1，而且假設蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

真空鍍膜技術(shù)是真空應用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開(kāi)發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話(huà)，這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分，夏邑不銹鋼鍍鈦服務(wù)，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長(cháng)的吸收，而對另一種波長(cháng)的透射的濾色pian。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制