PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的主要特征和優(yōu)點(diǎn)與真空蒸發(fā)涂層和真空濺射涂層相比，PVD離子涂層具有以下優(yōu)點(diǎn)：1.薄膜層與工件表面具有很強的結合力，更耐用，更耐磨。2.成膜速度快，生產(chǎn)效率gao。3.各種各樣的可涂層。PVD技術(shù)的發(fā)展PVD技術(shù)出現于20世紀70年代后期，金屬鍍鈦廠(chǎng)家電話(huà)，制備的薄膜具有硬度高，摩擦因數低，耐磨性好和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速鋼切削刀具領(lǐng)域的成功應用引起了全球制造業(yè)的極大關(guān)注。在開(kāi)發(fā)高xing能和高可靠性的涂層設備時(shí)，他們還在硬質(zhì)合金和陶瓷切削刀具中進(jìn)行了更深入的涂層應用研究。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

隨著(zhù)高科技及新興工業(yè)發(fā)展，物理氣相沉積技術(shù)出現了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn)，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù)，大型矩形長(cháng)弧靶和濺射靶，處理鍍鈦廠(chǎng)家電話(huà)，非平衡磁控濺射靶，裝飾鍍鈦廠(chǎng)家電話(huà)，孿生靶技術(shù)，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù)，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等，商丘市鍍鈦廠(chǎng)家電話(huà)，使用的鍍層成套設備，向計算機全自動(dòng)，大型化工業(yè)規模方向發(fā)展。第二節真空蒸鍍(一)真空蒸鍍原理(1)真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料加熱并蒸發(fā)，使大量的原子、分子氣化并離開(kāi)液體鍍料或離開(kāi)固體鍍料表面(升華)。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

因此，如果要防止蒸發(fā)粒子的大量散射，在真空蒸發(fā)鍍膜設備中，真空鍍膜室的起始真空度必須高于10-2Pa。由于殘余氣體在蒸鍍過(guò)程中對膜層的影響很大，因此分析真空室內殘余氣體的來(lái)源，借以消除殘余氣體對薄膜質(zhì)量的影響是重要的。真空室中殘余氣體分子的來(lái)源主要是真空鍍膜室內表面上的解吸放氣、蒸發(fā)源釋放的氣體、抽氣系統的返流以及設備的漏氣等原因所造成的。若鍍膜設備的結構設計及制造良好，則真空抽氣系統的返流及設備的漏氣并不會(huì )造成嚴重的影響。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制