離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能?chē)娡康乃苣z材料都能實(shí)現真空鍍，如ABS，P，處理不銹鋼鍍鈦公司，PMMA，PET，PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過(guò)鍍不同的金屬體現不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，處理不銹鋼鍍鈦電話(huà)，鋁，鎳等來(lái)實(shí)現金色，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來(lái)遮擋不需要電鍍的區域。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

后處理，涂面漆。第三節濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，棗莊處理不銹鋼鍍鈦，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過(guò)程稱(chēng)為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱(chēng)作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動(dòng)方向隨機，沉積的膜易于均勻。近年發(fā)展起來(lái)的規模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復性好，便于自動(dòng)化，已適當于進(jìn)行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節電弧蒸發(fā)和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領(lǐng)域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā)，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑?；“呔褪请娀≡陉帢O附近的弧根。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

未鍍金剛石節塊和鍍鈦金剛石節塊的抗彎強度隨燒結溫度的變化與胎體節塊抗彎強度有一致的變化規律，都是在760 °C 時(shí)抗彎強度達到zui大值，分別為482.6 MPa 和519.2 MPa；另外，加入金剛石以后，節塊的抗彎強度都降低，但鍍鈦金剛石節塊的抗彎強度要高于未鍍金剛石節塊。一般情況下，金剛石與胎體材料的界面往往成為斷裂源，金屬結合劑金剛石節塊的抗彎強度通常會(huì )低于金屬結合劑胎體的抗彎強度。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制