而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍源上，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線(xiàn)準分子雷射。紫外線(xiàn)的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠比紅外線(xiàn)高，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦服務(wù)電話(huà)，因此準分子雷射的功率密度甚高，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦電話(huà)，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類(lèi)似。常被用來(lái)披覆成份復雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或濺射的過(guò)程有基本上的差異，蘭考專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦，準分子雷射脫離的是微細的顆粒，后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：①蒸鍍速率快，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦服務(wù)，可達每秒1.0微米；②基板不須加熱；③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物；④鍍膜密高且附著(zhù)力佳。

不同的不銹鋼表面處理工藝，能夠讓同樣的材質(zhì)凸顯不同的視覺(jué)效果及手感特征。從設計的角度出發(fā)，需要了解下面這七種不銹鋼的表面處理工藝。1.PVD工藝PVD(PhysicalVaporDepsition)---物理氣相沉積：指利用物理過(guò)程實(shí)現物質(zhì)轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過(guò)程。它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD鍍膜與傳統化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜不會(huì )產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜技術(shù)目前主要應用的行業(yè)：PVD鍍膜技術(shù)的應用主要分為兩大類(lèi)：裝飾鍍膜和工具鍍膜。