主要工藝：目前，不銹鋼鍍鈦選哪家，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過(guò)程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來(lái)形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，表面不銹鋼鍍鈦選哪家，所以與真空磁控離子濺射相比，處理不銹鋼鍍鈦選哪家，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結合力。

由于該工藝過(guò)程具有炸性質(zhì)，并可形成液化金屬的液滴，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦選哪家，因此可能導致涂層表面粗糙。引入反應氣體從而形成化合物2)濺射（電離度低）：濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過(guò)程。在薄膜涂層中，這是通過(guò)加速朝向固體靶材的ya離子，使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來(lái)實(shí)現的。通過(guò)在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國內外技術(shù)對比分析：①整體差距：調查資料顯示：目前，國外PVD涂層行業(yè)的生產(chǎn)設備一般技術(shù)力量雄厚，工藝裝備精良，檢測手段齊全，并擁有全國先進(jìn)的大噸位及配套生產(chǎn)設備，具有較強的生產(chǎn)能力。

用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。