PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結構、耐化學(xué)和耐溫性、結合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應性氣體（例如氮氣或含碳氣體）；之后形成含金屬蒸氣的復合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經(jīng)鍍膜的透鏡每個(gè)表面的反射率為5％，單層鍍膜后降至2％，而多層鍍膜可降至0．2％，這樣，可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射，家具鍍鈦廠(chǎng)家選哪家，從而提高影像的反差和明銳度。主要有一下幾點(diǎn)功能能夠防止灰塵和油漬，提高鏡片光線(xiàn)通過(guò)率，使鏡片看事物清晰(在未鍍膜前，鏡頭的透光率為百分之九十一。加上膜后提高了透光率)減少可見(jiàn)光以外的光線(xiàn)散射鏡頭的鍍膜叫做增透膜主要的作用是降低玻璃表面的反光，減少光衰減。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類(lèi)廣泛5．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。