蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中，從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線(xiàn)運動(dòng)，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內，當氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時(shí)，這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線(xiàn)飛行，棗莊金屬表面不銹鋼鍍鈦，否則，就會(huì )產(chǎn)生碰撞而改變運動(dòng)方向。為此，金屬表面不銹鋼鍍鈦報價(jià)，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要的。當真空容器內蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱(chēng)蒸距)時(shí)，就會(huì )獲得充分的真空條件。設蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L(cháng)，并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實(shí)際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子數為N0，在相距為L(cháng)的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數為N1，而且假設蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能?chē)娡康乃苣z材料都能實(shí)現真空鍍，如ABS，P，PMMA，PET，PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過(guò)鍍不同的金屬體現不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，鋁，鎳等來(lái)實(shí)現金色，可鍍金，金屬表面不銹鋼鍍鈦選哪家，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來(lái)遮擋不需要電鍍的區域。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

外層膜表面硬度：減反膜一般外層選用MgF2，該膜層剖面是較松散的柱狀結構，表面硬度不高，容易擦拭出道子。

改善對策：

㈠膜系設計允許時(shí)，外層加10nm左右的SiO2層，金屬表面不銹鋼鍍鈦價(jià)格，二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會(huì )更好。（但表面會(huì )變粗）

㈡鏡片出真空室后，放置在較干燥潔凈的地方，防治快速吸潮，表面硬度降低。其它造成膜強度不良的原因還有，真空度過(guò)低（在手動(dòng)控制的機臺容易發(fā)生）、真空室臟、基片加熱不到位。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制