通過(guò)濺射工藝涂覆薄膜有幾個(gè)特點(diǎn)：金屬，合金或絕緣體可以制成薄膜材料。相同組成的薄膜可以在適當的設置條件下由多個(gè)復雜的靶材制成。通過(guò)在放電氣氛中添加氧氣或其他活性氣體，可以生產(chǎn)目標材料和氣體分子的混合物或化合物?？梢钥刂颇繕溯斎腚娏骱蜑R射時(shí)間，并且容易獲得高精度的膜厚。與其他工藝相比，有利于生產(chǎn)大面積的均勻薄膜。濺射的粒子不受重力影響，并且靶和基板的位置可以自由地布置?；呐c薄膜之間的粘合強度是普通氣相沉積薄膜的10倍以上，并且由于濺射的粒子具有高能量，因此表面將繼續在成膜表面上擴散以獲得堅硬而致密的表面電影。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

薄膜的成膜過(guò)程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉變過(guò)程，不可避免地在成膜后的膜層中會(huì )有應力存在，對于多層膜來(lái)說(shuō)有不同膜料的組合，各膜層體現出的應力是有所不同的，有的是張應力、有的是壓應力，還有膜層及基片的熱應力。

應力的存在對膜強度是有害的，裝飾鍍鈦加工服務(wù)，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細道子。

對于減反膜，由于層數不多，應力一般體現不明顯，（但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應力問(wèn)題存在。）而層數較多的高反膜、濾光膜，應力是一個(gè)常見(jiàn)的不良因素，應特別注意。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

氣態(tài)的原子、分子在真空中經(jīng)過(guò)很少的碰撞遷移到基體。(3)鍍料原子、分子沉積在基體表面形成薄膜。(二)蒸發(fā)源將鍍料加熱到蒸發(fā)溫度并使之氣化，這種加熱裝置稱(chēng)為蒸發(fā)源。zui常用的蒸發(fā)源是電阻蒸發(fā)源和電子束蒸發(fā)源，特殊用途的蒸發(fā)源有高頻感應加熱、電弧加熱、輻射加熱、激光加熱蒸發(fā)源等。(三)真空蒸鍍工藝實(shí)例以塑料金屬化為例，真空蒸鍍工藝包括：鍍前處理、鍍膜及后處理。真空蒸鍍的基本工藝過(guò)程如下：(1)鍍前處理，包括清洗鍍件和預處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學(xué)溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制