因此，如果要防止蒸發(fā)粒子的大量散射，在真空蒸發(fā)鍍膜設備中，真空鍍膜室的起始真空度必須高于10-2Pa。由于殘余氣體在蒸鍍過(guò)程中對膜層的影響很大，因此分析真空室內殘余氣體的來(lái)源，借以消除殘余氣體對薄膜質(zhì)量的影響是重要的。真空室中殘余氣體分子的來(lái)源主要是真空鍍膜室內表面上的解吸放氣、蒸發(fā)源釋放的氣體、抽氣系統的返流以及設備的漏氣等原因所造成的。若鍍膜設備的結構設計及制造良好，則真空抽氣系統的返流及設備的漏氣并不會(huì )造成嚴重的影響。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

膜強度的不良（膜弱）主要表現為：①擦拭或用專(zhuān)用膠帶拉撕，產(chǎn)生成片脫落；

②擦拭或用專(zhuān)用膠帶拉撕，產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落；

③水煮15分鐘后用專(zhuān)用膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落；

④用專(zhuān)用橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產(chǎn)生；

⑤膜層擦拭或未擦拭出現龜裂紋、網(wǎng)狀細道子。

改善思路：基片與膜層的結合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應力。膜強度不良的產(chǎn)生原因及對策：①基片與膜層的結合。一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。由于基片表面在光學(xué)冷加工及清洗過(guò)程中不可避免地會(huì )有一些有害雜質(zhì)附著(zhù)在表面上，而基片的表面由于光學(xué)冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質(zhì) 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

硝材化學(xué)穩定性差，基片在前加工過(guò)程中流轉過(guò)程中，表面已經(jīng)受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層（也許是局部的、極薄的）。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差，膜牢固度不良。

基片表面有臟污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn)等，裝飾鍍鈦加工多少錢(qián)，局部膜層附著(zhù)不良，造成局部膜牢固度不良。

改善對策：

㈠加強去油去污處理，如果是超聲波清洗，應重點(diǎn)考慮去油功能，并保證去油溶液的有效性；如若是手擦，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦。加強鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達到300℃以上更好，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水qi、油汽揮發(fā)。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制