離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，真空不銹鋼鍍鈦哪里有，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能?chē)娡康乃苣z材料都能實(shí)現真空鍍，如ABS，P，PMMA，PET，PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過(guò)鍍不同的金屬體現不同的顏色，許昌不銹鋼鍍鈦，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，鋁，鎳等來(lái)實(shí)現金色，真空不銹鋼鍍鈦服務(wù)，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來(lái)遮擋不需要電鍍的區域。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

將納米氮化鈦添加到TiN/Al2O3復相納米陶瓷中，通過(guò)各種方法（如機械混合法）等將其混合均勻，得到的這種含有納米氮化鈦顆粒的陶瓷材料內部便形成導電網(wǎng)絡(luò )。這種材料可作為電子元件應用于半導體工業(yè)中。

（6）在鎂碳磚中添加一定量的TiN，能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。

（7）氮化鈦是一種優(yōu)良的結構材料，可用于噴汽推進(jìn)器以及火箭等。在軸承和密封環(huán)領(lǐng)域也多用氮化鈦合金，凸顯了氮化鈦優(yōu)異的應用效果。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

它可以制備各種單金屬膜（例如鋁，鈦，鋯，鉻等），氮化物膜（TiN，裝飾不銹鋼鍍鈦電話(huà)，ZrN，CrN，TiAlN）和碳化物膜（TiC，TiCN）以及氧化物膜（例如TiO）等）。PVD涂膜層的厚度—PVD涂膜層的厚度為微米級，且厚度較薄，一般為0.3μm?5μm。裝飾涂膜層的厚度一般為0.3μm?1μm，因此幾乎不影響原始工件。在尺寸情況下，改善了工件表面的各種理化性能，以后不需要進(jìn)一步加工電鍍?？梢酝ㄟ^(guò)PVD涂層鍍膜的顏色類(lèi)型-目前可以通過(guò)PVD涂層鍍膜的顏色為深金黃色，淺金黃色，棕色，青銅色，灰色，黑色，灰黑色，七種通過(guò)控制涂層過(guò)程中的相關(guān)參數，可以控制電鍍顏色，涂層結束后，可使用相關(guān)儀器測量顏色，以量化顏色，以確定電鍍的顏色是否符合要求。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制