用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長(cháng)法，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

熱鍍鋅鎂鍍層也被稱(chēng)為鋅鋁鎂（ZAM），熔融池中金屬液體的組成是鋁和鎂的總和通常為1.5~8%（必須含有至少0.2%的鎂），其余為鋅。

熱鍍鋅鋁鎂鍍層的特點(diǎn)在于極為優(yōu)異的綜合耐蝕性能，尤其是對鋼板剪切斷口的保護。

這種鍍層比較特殊，各個(gè)廠(chǎng)家有各自的配方，裝飾鍍鈦加工公司，所以在標準中鋁和鎂的含量有較大的調整空間，鍍層厚度和重量的轉換關(guān)系也沒(méi)有固定值，大約為 1um≈6.2-6.6g/m2。鍍鋅是指在金屬、合金或者其它材料的表面鍍一層鋅以起美觀(guān)、防銹等作用的表面處理技術(shù)。應用較多主要是熱鍍鋅和冷鍍鋅（電鍍鋅）。