PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來(lái)加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場(chǎng)控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等

采用PVD涂鍍技術(shù)可以生產(chǎn)極薄的涂層且可以擴張到其他合金體系,因此具有更廣闊的應用價(jià)值。涂層厚度減半甚至到原來(lái)的1/3,對涂鍍板的焊接性能和成型性能會(huì )有很大的提高。更為重要的是，與傳統技術(shù)相比，PVD涂鍍技術(shù)不需要進(jìn)行yan塵和排放物的控制，因此，具有環(huán)保優(yōu)勢。采用新的PVD涂鍍技術(shù)，首先必須解決的問(wèn)題是，實(shí)現涂鍍工程的工業(yè)化規模生產(chǎn)，達到連續化和高速化涂鍍的要求。PVD（PhysicalVaporDepsition）鍍膜，是指利用物理手段實(shí)現物質(zhì)轉移，將原子或分子級新材料轉移到基材表面的過(guò)程。

清洗是通過(guò)化學(xué)或(及)物理的方法將工件上的油污、銹跡、灰塵等去除干凈，確保工件獲得較好的涂層結合力和生產(chǎn)的順利進(jìn)行。清洗是PVD涂層前必不可少的一道工序，也是PVD涂層生產(chǎn)中zui重要的工藝，清洗出了問(wèn)題，涂層生產(chǎn)不得不延遲、涂層過(guò)程可能中斷、或涂層結合力出現問(wèn)題而導致客戶(hù)投訴和賠償，尤其是在涂層設備的技術(shù)能力不高的情況下，清洗出了問(wèn)題，更容易發(fā)生上述風(fēng)險。有四個(gè)因素影響著(zhù)清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時(shí)間、化學(xué)藥劑、機械作用以及清洗液溫度，這四個(gè)因素之間也相互影響，一個(gè)因素的減弱，可以通過(guò)增強另外三個(gè)因素的作用來(lái)彌補，反之亦然。