PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來(lái)加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場(chǎng)控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等

在PVD技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統稱(chēng)為PVD鍍膜材料。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術(shù)CVD技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜材料的技術(shù)。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系2.PVD鍍膜材料下游太陽(yáng)能應用行業(yè)概況太陽(yáng)能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應用于太陽(yáng)能電池。按太陽(yáng)能電池的結構劃分，可分為結晶硅和薄膜太陽(yáng)能電池二大族群。

鋁是熱鍍鋅中zui常用的添加元素。在鋅液中添加不同濃度的鋁可以獲得不同性質(zhì)的鍍鋅層。

一般認為熱鍍鋅時(shí)，在鋅液中加入<1%(質(zhì)量分數，下同)的鋁可以起到下列作用：①提高鍍層光亮性;②減少鋅液面的氧化;③抑制脆性Fe—Zn相的形成而獲得粘附性好的鍍層。而在實(shí)際生產(chǎn)中，鋅液中含有0.005%～0.020%Al就可以達到鍍層光亮的目的，并可減少鋅液表面的氧化和鋅灰的產(chǎn)生。

采用Zn—Al中間合金的添加方式m往往由于添加的中間合金的質(zhì)量問(wèn)題以及添加鋁和鋅鋁合金的方法不當或過(guò)快，導致鋅液中形成大量的鋁、鐵化合物，此鋅鋁鐵三元“面渣”或顆粒懸浮在鋅液表面而且十分粘稠，極易粘附在鋼鐵制件上，嚴重損害了鍍層質(zhì)量，此時(shí)僅靠降溫撈渣是沒(méi)用的。