真空鍍膜的前處理是指對目標產(chǎn)品進(jìn)行清潔。比如一把刀具，肉眼可見(jiàn)的和肉眼不可見(jiàn)的細微小孔都會(huì )藏有影響膜層質(zhì)量的異物。所以對產(chǎn)品的前處理的要求是非常嚴格的，因為只有完全清洗干凈的產(chǎn)品才能避免產(chǎn)品“脫鈦”。車(chē)間的揚塵、空氣中的水氣等等看似很細微的因素都是影響膜層質(zhì)量的重要原因。在鍍膜的過(guò)程中就算是一個(gè)小小的灰塵附著(zhù)在產(chǎn)品表面，那么鍍出來(lái)的膜層就會(huì )產(chǎn)生白點(diǎn)，嚴重的還會(huì )造成膜層的脫落。所以，車(chē)間空氣潔凈度一定要達標。

鈦表面自然形成的氧化膜具有較好的抑菌作用，微晶鈦技術(shù)使氧化膜的表面積更大，更加致密，強度更高，實(shí)現了更好的抑菌效果?？梢允古Ｄ?、茶水、肉湯等食物保鮮及存放時(shí)間大大提高。在空氣或含氧介質(zhì)中，鈦表面會(huì )生成一層致密穩定、附著(zhù)性強、保護性好的氧化膜，能有效抵御各種強酸、強堿甚至王水等多種腐蝕物的侵蝕。即使受到外力破壞，也會(huì )迅速重生。

如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚較大，要求與機體結合牢固，但均勻性要求不高?；魻栯x子源可用。它具有高離子電流和高離子能級。如果涂有光學(xué)薄膜，主要要求離子電流水平集中，離子電流均勻性好。所以使用考夫曼或射頻離子源，有條件可以使用ECR(電子回旋)或ICP(電感耦合)離子源。另外還要考慮耗材，比如鎢絲的霍爾源，在反應氣體中十個(gè)小時(shí)就會(huì )燒壞。而離子源，如ICP離子源，可以在反應氣體中連續工作數百小時(shí)。