鍍鈦涂層的工業(yè)化生產(chǎn)開(kāi)始于上世紀末和本世紀初，和普通的應用于刀具/模具上的硬質(zhì)涂層（如TiN，TiAlN，CrN，TiCN等）相比是一種嶄新的涂層技術(shù)。目前在世界范圍內，能將這一技術(shù)很好應用的廠(chǎng)家也。鍍鈦是新一代硬質(zhì)涂層技術(shù)和應用的典型代表以及發(fā)展方向。鋁型材鍍鈦金工藝，屬于鍍膜技術(shù)，它是在常規鍍鈦工藝基礎上增加預鍍和電鍍工藝步驟，預鍍工藝是將活化后的鍍件置于和的水溶液中進(jìn)行化學(xué)處理；電鍍工藝的鍍液成分包括鎳、、硼酸、十二烷基鈉、糖精、光亮劑，本工藝具有簡(jiǎn)單、實(shí)用、效果佳等優(yōu)點(diǎn)，本工藝制得的鈦金鋁型材其膜層硬度HV≈1500、同等條件下比鍍22K金耐磨150倍，可加工成各種形態(tài)的金色、彩色，黑色等光亮的多種系列鋁型材產(chǎn)品。

常見(jiàn)的間接法測量有：稱(chēng)量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類(lèi)：稱(chēng)量法、電學(xué)法、光學(xué)法。常見(jiàn)的稱(chēng)量法有：天平法、石英法、原子數測定法；常見(jiàn)的電學(xué)法有：電阻法、電容法、渦流法；常見(jiàn)的光學(xué)方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。下面簡(jiǎn)單介紹三種：干涉顯微鏡法

電漿輔助化沉積：氣相化學(xué)沉積的化學(xué)反應是在高溫基材上進(jìn)行，如此才能使氣體前置物獲得足夠的能量反應。電漿聚合：聚合物或塑料薄膜簡(jiǎn)單的披覆技術(shù)就是將其溶劑中，然后涂布于基板上。電漿聚合涂布法系將分子單體激發(fā)成電漿，經(jīng)化學(xué)反應后形成一致密的聚合體并披覆在基板上，由于基材受到電漿的撞擊，其附著(zhù)性也很強。電漿蝕刻：濕式堿性蝕刻，這是簡(jiǎn)單而且便宜的方法，它的缺點(diǎn)是堿性蝕刻具晶面方向性，而且會(huì )產(chǎn)生下蝕的問(wèn)題。