極限真空度：（單位：P：在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的低壓強。一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過(guò)反應濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學(xué)反應無(wú)法繼續進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導，所以，化學(xué)反應必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進(jìn)行。

PVD燈具的鋁涂層真空鍍膜。因為是金屬薄膜，DC磁控濺射當然好。速度快。中頻適合鍍復合膜。如果選擇離子源，霍爾離子源就足夠了。但是要注意燈具的大小。一般霍爾離子源為圓形，離子源覆蓋面積有限。你必須用離子束覆蓋所有工件。如果普通霍爾離子源太小，可以考慮陽(yáng)極層離子源。離子源難以發(fā)光的一個(gè)原因是磁場(chǎng)太弱，無(wú)法激發(fā)等離子體。雖然離子源種類(lèi)很多，但基本上是先產(chǎn)生等離子體，然后從等離子體中提取氣體離子，加速成離子束，以便后期注入電子，根據需要中和離子流。

PVD真空鍍膜屬性是怎樣的？金屬色均勻、一致、耐用的表面，在各種基本的空氣和直射陽(yáng)光的環(huán)境下都能長(cháng)久保持良好的外觀(guān)。色彩深沉，色彩明亮。節省了清洗和擦亮電鍍黃銅或金屬所需的時(shí)間和成本。用軟布和玻璃清潔劑清洗PVD膜，清洗PVD膜層。不污染環(huán)境，避免化學(xué)*及VOC散發(fā)。具有生物學(xué)兼容性PVD真空鍍膜特性