真空鍍鈦廠(chǎng)家對機械部件間隙控制涂層：該種涂層可磨。耐熱涂層：該種涂層包含高溫進(jìn)程(其中有氧化空氣、腐蝕性氣體、高于843℃的沖蝕及熱障)和熔融金屬進(jìn)程(其中有熔融鋅、熔融鋁、熔融鐵和鋼、熔融銅)所應用的涂層?；謴统叽缤繉樱涸摲N涂層用于鐵基(可切削與可磨削的碳鋼和耐蝕鋼)和有色金屬(鎳、鈷、銅、鋁、鈦及他們的合金)制品。

與之對應的化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDepsition)簡(jiǎn)稱(chēng)為CVD技術(shù)。行業(yè)內通常所說(shuō)的“IP”(ionplatin離子鍍膜，是因為在PVD工藝技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱(chēng)為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤(pán))上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。

這個(gè)名字仍然沒(méi)有堅持，因為在同一年，德國化學(xué)家馬丁·海因里?！た死樟_斯發(fā)現了另一種名為“金紅石”的礦物中的金屬元素，現在已知其主要由二氧化鈦（TiO組成。）。在希臘神話(huà)中的“泰坦”之后，他將這種新金屬更具想象力地命名為“鈦金屬”。由于克拉普羅斯是一位受歡迎的，成熟的化學(xué)家，他的關(guān)系很好，但這個(gè)名字仍然存在，盡管格雷戈里因為首先發(fā)現它而受到贊譽(yù)