如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚較大，要求與機體結合牢固，但均勻性要求不高?；魻栯x子源可用。它具有高離子電流和高離子能級。如果涂有光學(xué)薄膜，主要要求離子電流水平集中，離子電流均勻性好。所以使用考夫曼或射頻離子源，有條件可以使用ECR(電子回旋)或ICP(電感耦合)離子源。另外還要考慮耗材，比如鎢絲的霍爾源，在反應氣體中十個(gè)小時(shí)就會(huì )燒壞。而離子源，如ICP離子源，可以在反應氣體中連續工作數百小時(shí)。

簡(jiǎn)單耐用。離子電流幾乎與氣體流量成正比，可以獲得更大的離子電流。鎢絲一般穿過(guò)出口，受到離子束的沖擊會(huì )很快被腐蝕，特別是對于反應性氣體，通常需要十幾個(gè)小時(shí)才能更換。而且鎢絲也會(huì )有一定的污染。解決鎢絲的缺點(diǎn)。有壽命長(cháng)的中和劑，如小型空心陰極源?；魻栯x子源是應用的離子源。離子源，如Veece的MarkI和MarkII。適合大部分國產(chǎn)離子源。

真空鍍膜技術(shù)是一項新興的技術(shù)，國際上直到60年代才開(kāi)始將CVD(化學(xué)氣相鍍膜)技術(shù)應用到硬質(zhì)合金工具中。因為這種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進(jìn)行，且涂層類(lèi)型單一，局限性很大，所以在開(kāi)發(fā)初期還有待改進(jìn)。離子鍍膜的基本原理：在真空條件下，采用一定的等離子體離子化技術(shù)，使鍍層原子部分離子化，同時(shí)產(chǎn)生大量高能中性原子，并在鍍層表面施加負偏壓。因此，在深度負偏壓作用下，離子沉積在基體表面形成薄膜。