PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對環(huán)境無(wú)污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無(wú)傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統稱(chēng)物理氣相沉積(PhysicalVaporDepoition)，簡(jiǎn)稱(chēng)為PVD。

真空鍍膜的前處理是指對目標產(chǎn)品進(jìn)行清潔。比如一把刀具，肉眼可見(jiàn)的和肉眼不可見(jiàn)的細微小孔都會(huì )藏有影響膜層質(zhì)量的異物。所以對產(chǎn)品的前處理的要求是非常嚴格的，因為只有完全清洗干凈的產(chǎn)品才能避免產(chǎn)品“脫鈦”。車(chē)間的揚塵、空氣中的水氣等等看似很細微的因素都是影響膜層質(zhì)量的重要原因。在鍍膜的過(guò)程中就算是一個(gè)小小的灰塵附著(zhù)在產(chǎn)品表面，那么鍍出來(lái)的膜層就會(huì )產(chǎn)生白點(diǎn)，嚴重的還會(huì )造成膜層的脫落。所以，車(chē)間空氣潔凈度一定要達標。

PVD是一種物理氣相沉積法，它分為：真空蒸發(fā)法、真空濺射法和真空離子法。PVD鍍膜通常指的是真空離子鍍膜；NCVM鍍膜通常指的是真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜。真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)。