還需注意一點(diǎn)就是產(chǎn)品底材本身不要有銹點(diǎn)，如果有銹點(diǎn)那么鍍鈦之后使用一段時(shí)間，很容易出現生銹或者鍍鈦層脫落的現象。首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長(cháng)的吸收，而對另一種波長(cháng)的透射的濾。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件必須在電鍍前仔細清洗。表面污染來(lái)源于加工、運輸和包裝過(guò)程中粘附在工件上的各種灰塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物質(zhì)。為了避免加工過(guò)程中造成的缺陷，真空鍍膜廠(chǎng)家基本上可以通過(guò)脫脂或化學(xué)清洗的方式去除。清潔處理后的清潔表面不能儲存在大氣環(huán)境中，但應儲存在封閉的容器或清潔柜中，以減少灰塵污染。通過(guò)將玻璃基板儲存在新氧化的鋁容器中，可以大限度地減少碳氫化合物蒸汽的吸附。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。對水蒸氣敏感的高度不穩定表面的真空鍍膜處理一般應儲存在真空干燥箱中。

如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚較大，要求與機體結合牢固，但均勻性要求不高?；魻栯x子源可用。它具有高離子電流和高離子能級。如果涂有光學(xué)薄膜，主要要求離子電流水平集中，離子電流均勻性好。所以使用考夫曼或射頻離子源，有條件可以使用ECR(電子回旋)或ICP(電感耦合)離子源。另外還要考慮耗材，比如鎢絲的霍爾源，在反應氣體中十個(gè)小時(shí)就會(huì )燒壞。而離子源，如ICP離子源，可以在反應氣體中連續工作數百小時(shí)。