商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度,涂層成分也由代的TiN發(fā)展為T(mén)iC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層。
增強型磁控陰極?。宏帢O弧技術(shù)是在真空條件下,通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài),從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場(chǎng)的共同作用,將靶材表面的電弧加以有效地控制,使材料的離化率更高,薄膜性能更加優(yōu)異。
過(guò)濾陰極?。哼^(guò)濾陰極電弧(FCA )配有的電磁過(guò)濾系統,可將離子源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀(guān)粒子、離子團過(guò)濾干凈,經(jīng)過(guò)磁過(guò)濾后沉積粒子的離化率為100%,并且可以過(guò)濾掉大顆粒, 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與機體的結合力很強。
磁控濺射:在真空環(huán)境下,通過(guò)電壓和磁場(chǎng)的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進(jìn)行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
?、趲罨牡木€(xiàn)速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要,因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線(xiàn)速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。
?、蹘罨牡呐芷推瘃迒?wèn)題。隨著(zhù)卷繞速度的提高,帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中,起褶和發(fā)生偏斜,嚴重時(shí)會(huì )造成基材的斷裂,使生產(chǎn)中斷,既影響生產(chǎn)效率,又浪費材料。因此,在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問(wèn)題。
高經(jīng)理先生
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