商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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感應加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩定,不易產(chǎn)生飛濺現象坩堝溫度較低,坩堝材料對膜導污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設備復雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,到達襯底凝結成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點(diǎn))材料,具有附著(zhù)力強、成分可控、易于規?;a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
其中熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍,利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料,利用鉭燈絲給工件加熱、除氣,利用電子槍增強離化率,不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂層,而且其結合力、耐磨性均有不俗表現,甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設備都只適合于 TiN涂層,或純金屬薄膜。對于多元涂層或復合涂層,則力不從心,難以適應高硬度材料高速切 削以及模具應用多樣性的要求。
與不同的氣體發(fā)應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數PVD方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過(guò)程需要在高度真空條件下進(jìn)行。Ionbond 陰極電弧PVD涂層技術(shù)在20世紀70年代后期由前蘇聯(lián)發(fā)明,如今,絕大多數的刀模具涂層使用電弧沉積技術(shù)。
工藝溫度:典型的PVD涂層加工溫度在250℃— 450℃之間,但在有些情況下依據應用領(lǐng)域和涂層的質(zhì)量,PVD涂層溫度可低于70℃或高于600℃進(jìn)行涂層。
高經(jīng)理先生
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