商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實(shí)踐的。其原理是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí),把蒸發(fā)物或其他反應物鍍在基片上的工藝。
根據膜層粒子的獲得方式,離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍,其中蒸發(fā)型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。
濺射鍍膜基本原理:充(Ar)氣的真空條件下,使氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)(Ar)原子電離成離子(Ar ),離子在電場(chǎng)力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì )被濺射出來(lái)而沉積到工件表面?!R射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運動(dòng)方向隨機,沉積的膜易于均勻。
蒸發(fā)源接陽(yáng)極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氣,在放電電場(chǎng)作用下部分氣被電離,從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區。帶正電荷的離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進(jìn)入輝光放電區并被電離。
高經(jīng)理先生
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