商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
QQ:1304173334
電弧蒸發(fā)鍍膜
在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電,利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。
優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等
缺點(diǎn)
會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒,影響薄膜質(zhì)量
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
離子鍍
在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法??蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離,克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷,高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著(zhù)力和質(zhì)量,是一種結合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。
根據離化方式的不同,常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。
高經(jīng)理先生
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