商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
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大家在使用鍍鎳砂時(shí)一個(gè)主要困擾是:砂的鍍覆活性不穩定,由此導致上砂質(zhì)量的波動(dòng)。不穩定的一個(gè)主要原因是砂的退鍍,那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢?可能這篇文章能給你一些。
鍍鈦砂和鍍鎢砂,都屬于高耐腐蝕砂,鍍層穩定。比如,日本使用鍍鈦砂,耐久性2-3個(gè)月,有利于產(chǎn)品質(zhì)量穩定和產(chǎn)線(xiàn)的自動(dòng)化。
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著(zhù)電力線(xiàn)方向運動(dòng),因而凡是有電場(chǎng)存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此,這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,只能順梯而上;而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機,能夠沿著(zhù)規定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內的任何地方。
磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程,
高經(jīng)理先生
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