商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。
蒸發(fā)鍍膜
真空條件下,將鍍料加熱蒸發(fā)或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。
采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù),一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。
鍍層附著(zhù)性能好
普通真空鍍膜時(shí),在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層,好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí),離子高速轟擊工件時(shí),能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時(shí),鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無(wú)起皮或剝落現象發(fā)生,可見(jiàn)附著(zhù)多么牢固,膜層均勻,致密。
高經(jīng)理先生
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