商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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電子束蒸發(fā)鍍膜
利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā),在基片表面凝結成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2,可達到3000℃以上,可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行),電子束自源發(fā)出,用磁場(chǎng)線(xiàn)圈使電子束聚焦和偏轉,對膜料進(jìn)行轟擊和加熱。
目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關(guān)的儀器對顏色值進(jìn)行測量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿(mǎn)足要求。裝飾鍍的目的:主要是為了改善工件的外觀(guān)裝飾性能和色澤,同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕延長(cháng)其使用壽命;這方面主要應用五金行業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域,如門(mén)窗五金、鎖具、衛浴五金等行業(yè)。
靶材承受的功率密度是有限的.靶面溫度過(guò)高會(huì )導致靶材熔化或引起弧光放電.在直接水冷的情況下,金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2.根據選定的靶電壓和允許的靶功率密度,即可確定靶電流密度.
降低Ar壓強有利于提高鍍膜速率,還有利于提高膜層結合力和膜層致密度.磁控濺射的Ar壓強通常選為0.5Pa,氣體放電的阻抗隨Ar壓強的降低而升高.磁控濺射時(shí),可以適當調節Ar壓強,
高經(jīng)理先生
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