商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
QQ:1304173334
點(diǎn)可蒸發(fā)任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面,熱
缺點(diǎn)電子槍結構復雜,造價(jià)高化合物沉積時(shí)易分解,化學(xué)比失調
3激光蒸發(fā)鍍膜
采用高能激光束對材料進(jìn)行蒸發(fā),用以形成薄膜的方法,一般稱(chēng)為激光蒸鍍。
優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復雜的合金或化合物,膜層的化學(xué)計量比與靶材保持一致
缺點(diǎn)
易產(chǎn)生微小顆粒飛濺,影響薄膜質(zhì)量
射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源,在靶和襯底間施加高頻電壓,濺射時(shí),靶極會(huì )產(chǎn)生自偏壓效應(即靶極會(huì )自動(dòng)處于負電位狀態(tài)),使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料,包括導體和絕緣體濺射可大規模生產(chǎn)
磁控濺射
磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入正交電磁場(chǎng),把二次電子束縛在靶表面,成螺旋狀運行來(lái)增強電離效率,增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時(shí)配備直流和射頻兩種。
高經(jīng)理先生
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