商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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電子束蒸發(fā)鍍膜
利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā),在基片表面凝結成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2,可達到3000℃以上,可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行),電子束自源發(fā)出,用磁場(chǎng)線(xiàn)圈使電子束聚焦和偏轉,對膜料進(jìn)行轟擊和加熱。
PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積,分為:真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常說(shuō)的NCVM鍍膜,就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發(fā),然后沉積在基體表面上,蒸發(fā)的方法常用電阻加熱,電子束轟擊鍍料,使蒸發(fā)成氣相,然后沉積在基體表面,歷,真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。
可見(jiàn),多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣,為了盡可能 地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性,實(shí)現互補,將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底,然后利用磁控濺射法增厚涂層,后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。
大約在八十年代中后期,出現了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機,應用效果很好,使TiN 涂層刀具很快得到普及性應用。
高經(jīng)理先生
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