商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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電弧蒸發(fā)鍍膜
在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電,利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。
優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等
缺點(diǎn)
會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒,影響薄膜質(zhì)量
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
在靶材和襯底之間加上一個(gè)直流高壓,極板間的氣體(一般為Ar2)電離,高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術(shù)。要保持自持放電,在兩極板間距為數厘米的正常濺射間距下,放電氣壓一般高達10帕,這對濺射效率和薄膜質(zhì)量都是不利的。因此,直流濺射多采用非自持放電,也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽(yáng)極的四極濺射,可使濺射在10-1~10-2帕的低氣壓下進(jìn)行。
鍍料原子、分子或離子在基體上沉積:工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí),則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能,高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。
高經(jīng)理先生
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