帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過(guò)程。

PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡(jiǎn)單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過(guò)程也與電焊類(lèi)似，具體地說(shuō)，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開(kāi)，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑，在蒸發(fā)源表面上連續形成熔池，使金屬蒸發(fā)后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結合力強的優(yōu)點(diǎn)。

現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進(jìn)行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著(zhù)力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。