商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
QQ:1304173334
射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源,在靶和襯底間施加高頻電壓,濺射時(shí),靶極會(huì )產(chǎn)生自偏壓效應(即靶極會(huì )自動(dòng)處于負電位狀態(tài)),使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料,包括導體和絕緣體濺射可大規模生產(chǎn)
磁控濺射
磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入正交電磁場(chǎng),把二次電子束縛在靶表面,成螺旋狀運行來(lái)增強電離效率,增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時(shí)配備直流和射頻兩種。
濺射技術(shù):
濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:
a. 利用直流輝光放電的二極濺射;
b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;
c. 利用射頻放電的射頻濺射;
d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.
2 磁控濺射陰極結構:
目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格: VT機:長(cháng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機: 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產(chǎn)當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
高經(jīng)理先生
手機:15939088815