商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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感應加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩定,不易產(chǎn)生飛濺現象坩堝溫度較低,坩堝材料對膜導污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設備復雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,到達襯底凝結成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點(diǎn))材料,具有附著(zhù)力強、成分可控、易于規?;a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
受到電場(chǎng)力的吸引,接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近,而電子則會(huì )飛向引弧針,但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子,因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下,電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離,于是當電子到達陽(yáng)極時(shí),離子將不會(huì )到達陰極靶面,而是在距離靶面較近的位置處富集,形成正離子堆積層,陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小,可達微米級。根據E=U/d,可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高,這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。
鍍層附著(zhù)性能好
普通真空鍍膜時(shí),在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層,好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí),離子高速轟擊工件時(shí),能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時(shí),鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無(wú)起皮或剝落現象發(fā)生,可見(jiàn)附著(zhù)多么牢固,膜層均勻,致密。
高經(jīng)理先生
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