商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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感應加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩定,不易產(chǎn)生飛濺現象坩堝溫度較低,坩堝材料對膜導污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設備復雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,到達襯底凝結成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點(diǎn))材料,具有附著(zhù)力強、成分可控、易于規?;a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
可見(jiàn),多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣,為了盡可能 地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性,實(shí)現互補,將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底,然后利用磁控濺射法增厚涂層,后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。
大約在八十年代中后期,出現了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機,應用效果很好,使TiN 涂層刀具很快得到普及性應用。
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著(zhù)電力線(xiàn)方向運動(dòng),因而凡是有電場(chǎng)存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此,這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,只能順梯而上;而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機,能夠沿著(zhù)規定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內的任何地方。
高經(jīng)理先生
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