商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。
在二十世紀七十年代末,人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù),即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應用在硬質(zhì)膜的制造上,它能夠提高產(chǎn)品的機械化學(xué)性能,使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能,還可以減輕摩擦作用。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí),就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響,受到了高度重視。同時(shí),這種技術(shù)工藝符合現代人們對環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求,是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。
受到電場(chǎng)力的吸引,接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近,而電子則會(huì )飛向引弧針,但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子,因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下,電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離,于是當電子到達陽(yáng)極時(shí),離子將不會(huì )到達陰極靶面,而是在距離靶面較近的位置處富集,形成正離子堆積層,陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小,可達微米級。根據E=U/d,可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高,這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。
離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術(shù),使鍍料原子部分電離成離子,同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。
九、離子鍍的工藝過(guò)程:蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。
高經(jīng)理先生
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